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《PNAS》:基于極小曲面的微納米點(diǎn)陣材料的優(yōu)異力學(xué)性能

更新時(shí)間:2023-06-01點(diǎn)擊次數(shù):1221



作為一種新興的力學(xué)超材料生產製造,三維微納米點(diǎn)陣材料具有低密度技術創新、高模量關鍵技術、高強(qiáng)度了解情況、高能量吸收率和良好的可恢復(fù)性等優(yōu)異的力學(xué)性能,極大地拓展了已有材料的性能空間技術研究。如何通過(guò)拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)獲得具有優(yōu)異力學(xué)性能的三維微納米點(diǎn)陣材料是固體力學(xué)領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)之一重要的。微納米點(diǎn)陣材料通常由具有特定結(jié)構(gòu)的單胞在三維空間中周期陣列形成。根據(jù)組成單胞的基本元素的種類(lèi)姿勢,可以將三維微納米點(diǎn)陣材料分為基于桁架(truss)相互融合、平板(plate)和曲殼(shell)三種類(lèi)型。目前綠色化,基于桁架的微納米點(diǎn)陣材料已經(jīng)表現(xiàn)出良好的力學(xué)性能不同需求,但其節(jié)點(diǎn)處的應(yīng)力集中限制了其力學(xué)性能的進(jìn)一步提升。近年來(lái)的研究表明保持穩定,基于平板的微納米點(diǎn)陣材料可以達(dá)到各向同性多孔材料楊氏模量的理論上限總之,然而其閉口的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)為其通過(guò)增材制造的手段進(jìn)行制備帶來(lái)了挑戰(zhàn)。相比之下支撐作用,具有光滑工藝技術、連續(xù)、開(kāi)口特點(diǎn)的曲殼結(jié)構(gòu)則在構(gòu)筑具有優(yōu)異力學(xué)性能的微納米點(diǎn)陣材料方面具有天然的優(yōu)勢(shì)生產效率。


近期產能提升,清華大學(xué)李曉雁教授課題組采用面投影微立體光刻設(shè)備(microArch S240,摩方精密BMF)制備了特征尺寸在幾十至幾百微米量級(jí)的多種桁架、平板和曲殼微米點(diǎn)陣材料通過活化。所研究的結(jié)構(gòu)包括Octet型和Iso型兩種桁架結(jié)構(gòu)落地生根、cubic+octet平板結(jié)構(gòu)以及Schwarz P、I-WP和Neovius三種極小曲面結(jié)構(gòu)健康發展。其中有效保障,cubic+octet平板結(jié)構(gòu)是早先研究報(bào)道的能夠達(dá)到各向同性多孔材料楊氏模量理論上限的平板結(jié)構(gòu)。


該團(tuán)隊(duì)通過(guò)原位壓縮力學(xué)測(cè)試研究并對(duì)比了多種不同結(jié)構(gòu)的微米點(diǎn)陣材料的變形特點(diǎn)和力學(xué)性能長效機製。結(jié)果表明講實踐,相對(duì)密度較大時(shí),I-WP和Neovius曲殼微米點(diǎn)陣材料與cubic+octet平板點(diǎn)陣材料類(lèi)似奮戰不懈,在壓縮過(guò)程中呈現(xiàn)均勻的變形特點(diǎn)市場開拓。而Octet型和Iso型兩種桁架點(diǎn)陣則在壓縮過(guò)程中形成明顯的剪切帶,發(fā)生變形局域化大大縮短。相應(yīng)地要落實好,I-WP和Neovius兩種曲殼點(diǎn)陣和cubic+octet平板點(diǎn)陣具有比桁架點(diǎn)陣更高的楊氏模量和屈服強(qiáng)度,這與有限元模擬的結(jié)果一致更默契了。有限元模擬同時(shí)揭示了曲殼和平板單胞具有優(yōu)異力學(xué)性能的原因在于其在壓縮過(guò)程中具有更均勻的應(yīng)變能分布先進技術,而桁架單胞節(jié)點(diǎn)處存在明顯的應(yīng)力集中,其節(jié)點(diǎn)處及豎直承重桿件的局部應(yīng)變能甚至可以達(dá)到整體結(jié)構(gòu)平均應(yīng)變能的四倍以上不合理波動。該研究表明宣講手段,基于極小曲面的點(diǎn)陣材料能夠表現(xiàn)出比傳統(tǒng)的桁架點(diǎn)陣材料更為優(yōu)異的力學(xué)性能,同時(shí)其光滑積極拓展新的領域、連續(xù)基礎、無(wú)自相交區(qū)域的特點(diǎn)使得其在構(gòu)筑結(jié)構(gòu)功能一體化的微納米材料方面具有重要的應(yīng)用前景。


圖1. (A-F) 多種桁架多種方式、平板及曲殼單胞結(jié)構(gòu)對外開放;(G-L)采用面投影微立體光刻技術(shù)制備的多種不同結(jié)構(gòu)的聚合物微米點(diǎn)陣材料


圖2. 利用面投影微立體光刻技術(shù)制備的聚合物微米點(diǎn)陣材料原位壓縮力學(xué)測(cè)試結(jié)果。(A-F)工程應(yīng)力-應(yīng)變曲線深入交流研討;(G-L)不同結(jié)構(gòu)的點(diǎn)陣材料在加載過(guò)程中的典型圖像(標(biāo)尺為2 mm)

 

圖3. 周期邊界條件下不同單胞結(jié)構(gòu)單軸壓縮的有限元模擬結(jié)果資料。(A-B)歸一化楊氏模量和屈服強(qiáng)度隨相對(duì)密度的變化;(C-H)不同單胞結(jié)構(gòu)的應(yīng)變能分布