一大大提高、高精密增材制造3D打印介紹

nanoArch S130 2μm精度微納3D打印系統(tǒng)由摩方精密自主研發(fā)的高精密微納3D打印系統(tǒng)。設(shè)備采用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術(shù)研究成果，是目前行業(yè)極少能實(shí)現(xiàn)超高打印精度取得了一定進展、高公差加工能力的3D打印系統(tǒng)。PμSL技術(shù)使用高精度紫外光刻投影系統(tǒng)大面積，將需打印模型分層投影至樹(shù)脂液面積極參與，快速微立體成型，從數(shù)字模型直接加工三維復(fù)雜工業(yè)樣件培養。該技術(shù)具有成型效率高交流研討、加工成本低等突出優(yōu)勢(shì)，被認(rèn)為是目前非常具有前景的微尺度加工技術(shù)之一形式。

二建設應用、高精密增材制造3D打印基本參數(shù)

光源：UV-LED(405nm)

打印材料：硬性樹(shù)脂、耐高溫樹(shù)脂日漸深入、韌性樹(shù)脂相關、生物兼容性樹(shù)脂等

光學(xué)精度：2μm

打印層厚：5-20μm

打印尺寸：

①模式一：3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)（單投影模式）

②模式二：38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)（拼接模式）

③模式三：50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)（重復(fù)陣列模式）

文件格式：STL

系統(tǒng)外形尺寸：1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)

重量：550kg

電氣要求：200-240V AC,50/60HZ,3kW

三大力發展、應(yīng)用領(lǐng)域

nanoArch S130 2μm精度微納3D打印系統(tǒng)可廣泛應(yīng)用于力學(xué)超材料、生物醫(yī)療生產效率、微機(jī)械結(jié)構(gòu)、微流控適應性、三維復(fù)雜仿生結(jié)構(gòu)等領(lǐng)域節點。