一結構重塑、摩方精密3D打印產(chǎn)品介紹

nanoArch®是采用PUSL（面投影微立體光刻）技術(shù)，用于實(shí)現(xiàn)高精度多材料微納尺度3D打印的設(shè)備應用優勢。通過將紫外光投影到液態(tài)樹脂表面使其固化高質量發展，逐層累加從而完成產(chǎn)品的制作。通過一次曝光可以完成一層的制作高效節能。

科研級(jí)3D打印系統(tǒng)影響力範圍，擁有超高打印精度和超低打印層厚，從而實(shí)現(xiàn)超高精度的樣件制作新創新即將到來，非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新邁出了重要的一步。

二、摩方精密3D打印產(chǎn)品特性

1設施、可定制高定位精度的光學(xué)系統(tǒng)和運(yùn)動(dòng)平臺(tái)需求，兩者最高分辨率皆可達(dá)到20μm。

2組合運用、采用圖像拼接成型方式解決成型精度與大尺寸成型之間的矛盾更讓我明白了。

3、通過工藝技術(shù)控制積極，實(shí)現(xiàn)3D打印成品的表面光滑探索。

4、光學(xué)方面：光學(xué)實(shí)時(shí)監(jiān)控產業，實(shí)現(xiàn)自動(dòng)對(duì)焦及曝光補(bǔ)償滿意度。

5、軟件系統(tǒng)：nanoArch圖形界面控制系統(tǒng)可持續，參數(shù)端口開放主要抓手。

三、使用環(huán)境要求

1構建、需避免的場(chǎng)合：

垃圾創新科技、灰塵探討、油霧多的場(chǎng)所；

震動(dòng)以及沖擊多的場(chǎng)所高效流通；

能觸及藥品和易燃易爆物的場(chǎng)所調解製度；

高頻干擾源附近的場(chǎng)所；

溫度會(huì)急劇變化的場(chǎng)所功能；

在CO2應用的因素之一、NOX、SOX等濃度高的環(huán)境中生產製造。

2開展試點、環(huán)境濕度：40%-60%

3、環(huán)境溫度：25±3℃

4共同、電力需求：

100-240V/單相/50/60Hz/15A推進一步；

供電電網(wǎng)波動(dòng)：＜5%；

電網(wǎng)地線符合機(jī)房國標(biāo)要求簡單化。