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當(dāng)前位置:首頁(yè)產(chǎn)品中心3D打印微納3D打印nanoArch S130高精度微納3D打印系統(tǒng)

高精度微納3D打印系統(tǒng)

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

高精度微納3D打印系統(tǒng)nanoArch S130 共同學習,光學(xué)精度2微米提高,支持光敏樹脂材料打印相對開放。系統(tǒng)基于摩方精密創(chuàng)新面投影微立體光刻技術(shù)(PμSL)部署安排,并融入了摩方自主開發(fā)的多項(xiàng)技術(shù)搖籃。

產(chǎn)品型號(hào):nanoArch S130
更新時(shí)間:2025-09-09
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
訪問(wèn)量:2992
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品牌摩方精密應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,食品/農(nóng)產(chǎn)品,生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,制藥/生物制藥
光學(xué)精度2μm打印材料光敏樹脂
打印層厚5-20μm最大打印尺寸50mm(L)×50mm(W)×10mm(H)
光源UV?LED(405nm)

一資源配置、3D光刻技術(shù)介紹

摩方PµSL是一種微米級(jí)精度的3D光刻技術(shù)信息,這一技術(shù)利用液態(tài)樹脂在UV光照下的光聚合作用,使用滾刀快 速涂層技術(shù)大大降低每層打印的時(shí)間大力發展,并通過(guò)打印平臺(tái)三維移動(dòng)逐層累積成型制作出復(fù)雜三維器件豐富內涵。


在三維復(fù)雜結(jié)構(gòu)微納加工領(lǐng)域生產效率,BMF Material團(tuán)隊(duì)擁有超過(guò)二十年的科研經(jīng)驗(yàn),針對(duì)客戶在項(xiàng)目研究中可能出現(xiàn)的工藝和材料難題適應性,我們將持續(xù)提供簡(jiǎn)易高效的技術(shù)支持方案節點。

高精度微納3D打印系統(tǒng)



二、3D光刻技術(shù)功能介紹

*的薄膜滾刀涂層技術(shù)允許更高的打印速度落地生根,使打印速度最高提升10倍以上的特點;

能夠處理高達(dá)20000cps的高粘度樹脂,從而生產(chǎn)出耐候性更強(qiáng)有效保障、功能更強(qiáng)大的零部件大數據;

能夠打印工業(yè)級(jí)復(fù)合聚合物和陶瓷光敏材料,包括與巴斯夫合作開發(fā)的全新功能工程材料講實踐。


三空間廣闊、微納3D打印系統(tǒng)打印材料

通用型

丙烯酸類光敏樹脂,比如HDDA不折不扣,PEGDA等支撐能力。


工業(yè)級(jí)復(fù)合聚合物,例如高粘度樹脂高效利用、陶瓷漿料等特征更加明顯。


個(gè)性化

高強(qiáng)度硬性樹脂、納米顆粒摻雜樹脂講理論、生物醫(yī)用樹脂等的可能性。



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