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當前位置:首頁產品中心3D打印微納3D打印microArch® S230A高精度光固化3d打印機

高精度光固化3d打印機

產品簡介

摩方高精度光固化3d打印機microArch® S230(精度:2μm)紮實做,基于面投影微立體光刻技術(PμSL)構建空間廣闊。全自動水平調節(jié)系統(tǒng):平臺自動調平、膜面自動調平提供深度撮合服務、滾刀自動調節(jié)三大系統(tǒng)用的舒心,打印效率提升近50倍。

產品型號:microArch® S230A
更新時間:2025-09-09
廠商性質:生產廠家
訪問量:1270
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品牌摩方精密應用領域生物產業(yè),航空航天,制藥/生物制藥,綜合
光學精度2μm打印層厚5~20μm
光源UV-LED(405nm) 打印材料光敏樹脂穩定性、陶瓷漿料
樣件尺寸50mm(L)×50mm(W)×50mm(H)系統(tǒng)外形尺寸1720mm(L)×750mm(W)×1820mm(H)
電氣要求220~240V AC,50/60HZ,2KW

摩方精密高精度光固化3d打印機microArch® S230A像一棵樹,依托于創(chuàng)新的PμSL技術,實現(xiàn)高達2微米光學精度去突破,支持光敏樹脂能運用、陶瓷漿料打印。這項技術基于數(shù)字光處理(DLP)系統(tǒng)智能設備,通過將紫外光投影至光敏材料表面不可缺少,精確固化每一層微結構。相較于傳統(tǒng)點掃描方式特點,PμSL采用整層曝光積極回應,使得打印速度更快、結構一致性更高向好態勢、邊緣清晰度更優(yōu)平臺建設。

 

一、microArch® S230A設備規(guī)格


光源:UV-LED(405nm)

打印材料:光敏樹脂貢獻力量、陶瓷漿料

光學精度:2μm

打印層厚:5~20μm

打印樣品尺寸:

模式1:單投影模式:3.84mm(L)×2.16mm(W)×50mm(H)

模式2:拼接模式:50mm(L)×50mm(W)×50mm(H)

模式3:重復陣列模式:50mm(L)×50mm(W)×50mm(H)

打印文件格式:STL

系統(tǒng)外形尺寸:1720mm(L)×750mm(W)×1820mm(H)

重量:660kg

電氣要求:220~240V AC,50/60HZ,2KW


設備特點優(yōu)勢

超高精度:光學精度高達2μm使用;

配置激光測距,便于打印平臺和離型膜的調平發行速度;

配置滾刀更加堅強,用于打印材料快速流平,且支持打印高黏度樹脂性能;

配備高精密運動控制系統(tǒng)初步建立,XYZ運動軸的重復定位精度±0.2μm;

工業(yè)級的設備標準供給,易操作的方法,易維護;

配置氣浮平臺進行探討,提高打印質量落到實處;

優(yōu)良的光源穩(wěn)定性;

配套量身定制的打印軟件十分落實、切片軟件倍增效應。


二、microArch® S230A應用領域

 

1製造業、微流控芯片制造

 

在生命科學和POCT(即時診斷)等領域優化服務策略,微流控芯片的通道寬度往往在幾十微米甚至更小關規定。摩方2μm微納3D打印設備能夠應用于微流控平臺、器官芯片兩個角度入手、單細胞分析平臺的構建建強保護,其高精度打印能力有效保障了通道尺寸一致性與液體傳輸效率,助力生物醫(yī)學微系統(tǒng)精密集成創新為先。

 

2真正做到、精密光學結構與微透鏡陣列

 

傳統(tǒng)微透鏡或自由曲面元件多依賴超精密CNC或注塑模具加工,成本高創新延展、開發(fā)周期長。借助2微米精度的3D打印技術長期間,用戶可以快速設計并制造高曲率自由曲面光學結構基本情況,用于增強VR/AR成像、太赫茲波導高端化、光波導通信等領域的光學性能力量。

 

3、微型器件與傳感器

 

在傳感器提單產、微型執(zhí)行器等領域深入實施,摩方精密支持微米級連接通道以及復雜結構的原位制造,為小型化發展空間、集成化電子元器件的研發(fā)提供了解決路徑效果。同時,陶瓷足了準備、光敏樹脂等材料兼容性合作關系,也使得這類器件具備更強的環(huán)境適應能力。



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