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microArch S240A 10μm高精度微納3D打印系統(tǒng)基于BMF摩方的技術?面投影微立體光刻技術（PμSL）構建積極性，并融入了摩方自主開發(fā)的多項技術開展試點。摩方PμSL是一種微米級精度的3D光刻技術不斷進步，這一技術利用液態(tài)樹脂在UV光照下的光聚合作用保供，使用滾刀快 速涂層技術大大降低每層打印的時間高效節能，并通過打印平臺三維移動逐層累積成型制作出復雜三維器件影響力範圍。

微納3D打印microArch® S240A基于PμSL技術，具備10微米打印精度新創新即將到來，支持光敏樹脂和陶瓷漿料打印邁出了重要的一步，專注于微尺度結構的穩(wěn)定成型。系統(tǒng)搭載自動調平系統(tǒng)設施，集平臺自動調平需求，繃膜自動調平和滾刀自動調節(jié)三大功能，使工藝參數設置組合運用、液面調平更讓我明白了、流平時間等步驟實現(xiàn)全自動作業(yè)模式。

摩方高精度光固化3d打印機microArch® S230（精度：2μm）脫穎而出，基于面投影微立體光刻技術（PμSL）構建拓展應用。全自動水平調節(jié)系統(tǒng)：平臺自動調平、膜面自動調平、滾刀自動調節(jié)三大系統(tǒng)關註度，打印效率提升近50倍橫向協同。

高精度微納3D打印系統(tǒng)nanoArch S130 ，光學精度2微米敢於挑戰，支持光敏樹脂材料打印不斷創新。系統(tǒng)基于摩方精密創(chuàng)新面投影微立體光刻技術（PμSL），并融入了摩方自主開發(fā)的多項技術提供了遵循。